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PLAN11出口自沖洗
介質由泵的出口經管線進入機械密封實施沖洗。
適用情況：
1.清潔介質(介質本身須清潔)
2.介質溫度不高于110℃
3.泵進出口間的壓差不能大於10Bar
大於10Bar．則需設節流閥)
PLAN13入口自沖洗
介質由入口經管線進入機封實現液體的循環流動
適用情況：
1.泵進出口壓力差大於10Bar
2.清潔介質
3.介質溫度不高于110℃
PLAN21出口冷卻自沖洗
介質由泵的出口經冷卻器降溫后，再進入機械密封，實現對密封的冷卻.
適用情況：
1.介質溫度高于110℃
2.清潔介質
PLAN52不加壓冷卻方式
利用壓力小於工藝流體壓力但不低於大氣壓力的阻隔流體，注入密封室中。由於隔流體壓力小於工藝流體壓力，少量工藝流體洩漏至阻隔流體中，被阻隔流體出密封室，到密封系統或放空系統中進行處理，從而避免工藝流體的直接排放大氣和環境的污染。
技術要求:
1.低壓阻隔流體防止滲漏，但阻隔液壓力不得低於O．7公斤／釐米
2.阻隔流體須清潔，潤滑，且和介質相溶
3.阻隔流體的流向應與軸的旋向相同
適應場合:
低沸點、易汽化的介質
危險品
不允許介質被污染的製藥行業
PLAN53加壓冷卻方式
利用壓力大於工藝流體和大氣壓力的阻隔流體注入密封室中，由於阻隔流體壓力大於工藝流體壓力，防止了工藝流體向阻隔流體的洩漏，從而有效地防止工藝流對大氣和環境的污染。
技術要求:
1.阻隔流體壓力至少比密封腔壓力高1—2公斤／釐米2.阻隔流體須清潔，潤滑，且和介質相溶
3.阻隔流體的流向應與軸的旋向相同
適應場合:
易結晶或固化的介質
易聚合介質
常溫含顆粒的介質
PLAN54加壓冷卻方式
利用加壓泵給阻隔流體加壓，壓力比工藝流體壓高1—2公斤／釐米2一方面，提高阻隔流體的循環速度，加快對密封面的冷卻；另一方面，阻止工藝流體通過內側密封向阻隔流體系統的洩漏，避免工藝流體對大氣和環境的污染。
技術要求:
1.阻隔流體壓力比密封腔內工藝流體壓力高1—2公斤／釐米
2.阻隔流體須清潔，潤滑，且和介質相溶
3.阻隔流體的流向應與軸的旋向相同
適應場合:
高溫含顆粒的介質
熱流體
低溫介質
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